文章来源：财联社
近日，中国半导体装备领域传来重磅捷报。江苏影速集成电路装备股份有限公司 （以下简称 「影速集成」） 正式宣布，其完全自主研发的 FEM2000 激光直写曝光设备已成功出货，交付予北京某半导体显示产业的龙头企业。这一事件远非寻常的设备交付，它标志着我国在高端显示核心制造装备打破了日韩企业在该环节长达数十年的技术垄断，为 「中国屏」 迈向高端化、实现产业链自主可控注入了最核心的动能。
打破垄断，攻克显示制造 「最后堡垒」
在面板制造复杂繁冗的工艺流程中，曝边、打码以及金属掩模版 （FMM/CMM） 的制造环节，因其技术门槛极高、工艺精度要求严苛，一直是国产设备难以逾越的技术高地。长期以来，这些核心设备与工艺几乎完全依赖日本、韩国进口，不仅采购成本高昂、售后服务受限，更关键的是，这使得中国庞大的显示产业在供应链安全上存在 「卡脖子」 的隐忧，产业升级的命脉掌握在他人之手。
影速集成此次交付的 FEM2000 设备，正是直指这一行业痛点。该设备成功实现了从 G6 到 G10.5 代线全尺寸的激光直写曝光技术国产化替代。这意味着，无论是用于智能手机的中小尺寸屏幕，还是用于电视的 65 英寸至 110 英寸超大尺寸面板，中国企业都拥有了国产化的核心装备选择，从根本上筑牢了产业链安全防线。
硬核技术，铸就 「自主化」 底气
影速集成成立于 2014 年，自创立之初便深耕于激光直写光刻技术及半导体前道检测设备领域，是一家拥有深厚技术积淀的国家级专精特新企业。公司的技术优势并非一蹴而就，其自主研发的双台面激光直接成像设备早已在高端 PCB 及载板制造领域打破了国外垄断，并两次被认定为江苏省首台 （套） 重大装备，为进军显示领域奠定了坚实的技术基础。
FEM2000 设备集成了影速集成最尖端的技术成果，其优势体现在三大方面：首先，是极致的精度。设备采用先进的激光直写技术，无需传统的掩模版，可直接在超薄且易碎的玻璃基板上进行微米级线宽的刻画。这一精度水平，恰好满足了 Micro LED、OLED 等下一代显示技术对精细图形化的苛刻要求，为产业技术迭代提供了设备保障。其次，是卓越的灵活性。 设备具备开放式的工艺接口，能够快速适配不同尺寸、不同材料的基板，极大地满足了面板厂商在新技术研发阶段 「小批量、多型号」 的试产需求，显著缩短了研发周期，加速了创新步伐。第三，是全面的数据安全。从版图设计到曝光参数，全部由国内设备进行闭环处理，杜绝了工艺数据外泄的风险，保护了企业的核心知识产权。
赋能未来，开启 「中国智造」 新篇章
目前，FEM 系列设备的应用已深入 UV-Glass 基板处理、FMM/CMM 金属掩模版制造、大尺寸掩模版量产等核心场景。其独特的动态聚焦系统与多场同步曝光技术，有效突破了传统光刻技术在均匀性和精度上的限制，为超大尺寸面板的良率提升提供了关键支撑。
此次 FEM2000 的成功交付，是一个里程碑，更是一个新起点。它象征着中国显示产业装备从辅助环节走向核心环节，从技术 「跟跑」 到与国际巨头 「并跑」 的战略性转变。展望未来，随着以影速集成为代表的国产装备企业持续创新、深度渗透，中国显示产业将构筑起愈加坚实的安全壁垒，并在全球市场中赢得更响亮的话语权，真正实现从 「显示大国」 到 「显示强国」 的跨越。